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供应日本SEN 紫外线清洗机

供应日本SEN 紫外线清洗机

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  • 广东 深圳
  • 光刻机,太阳能检测仪,离子刻蚀与沉积机,紫外UV清洗机

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  • 联系人:
    徐先生
  • 职   位:
    销售
  • 电   话:
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  • 手   机:
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  • 地   址:
    广东 深圳 宝安区 宝安区沙井共和第四工业区新和大道昊海弘工业园A6栋7楼
加工定制:是机器类型:清洗机用途:工业用
原理:紫外线UV光清洗品牌:日本SEN型号:PM11020,PM20012,PM11012,PM9018B,PM20036C,PL16-110,

供应日本SEN 紫外线清洗机详细介绍

日本SEN是世界上光清洗/光固化,质改设备以及光源的启发者,代表着技术标准和方向。深圳市蓝星宇电子科技有限公司(LXYUV)总代理全系列SEN产品、光清洗/光固化/质改设备及光源,希望能协助合作伙伴生产出***的产品。蓝星宇携手SEN服务普及工业,半导电子,ITO玻璃,PCB,集成IC、LCD,OLED,TOUCH PANEL,医疗,娱乐,景观,等***科技领域的各种特殊光源产品。

undefinedPM11020



undefinedPM9018B

undefinedPM11012



undefinedPM20036C

undefinedPL16-110,PL17-110



undefinedPM20012

清洗机PL28-200PL28-200

 

设备规格:

设备型号

使用灯管

灯管数量

灯管功率

照射面积

照射距离

可处理面积

电压

电流

功率

冷却方式

传送带速度

PL16-110

SUV110GS-36

1

110W

160*160MM

10~40MM

160*160MM

3项,200V

3A

250W

空冷

桌上型

PL17-110

SUV110GS-36

1

110W

160*160MM

10~40MM

160*160MM

3项,200V

3A

 

空冷

桌上型

PL21-200

EUV200GS-14

1

200

218*218MM

10~40MM

218*218MM

3项,200V

3A

 

空冷

桌上型

PL28-200

EUV200GS-14

1

200W

280*280MM

10~40MM

280*280MM

3项,200V

3A

 

空冷

桌上型

PM9018B

SUV90US-55

18

90W

900*450MM

10~40MM

900*450MM

3项,200V

3A

2600W

水冷

可调

PM11012

SUV110US-55

12

110W

650*800MM

10~40MM

650*800MM

3项,200V

3A

1970W

水冷

可调

PM11020

SUV110US-55

12

110W

650*800MM

10~40MM

650*800MM

3项,200V

3A

1970W

水冷

可调

PM20012

EUV200US-55

12

200W

600*650MM

10.2~40MM

600*650MM

3项,200V

7A

1970W

水冷

可调

PM20036C

EUV200US-88

36

200W

1000*1000MM

17.5~50MM

1000*1000MM,1000*3000MM

3项,200V

3A

3870W

水冷

可调

 

注:可以按客户特殊要求定制,请随时来电来邮联系我们;TEL:0755-81776600,29698758,

E-Mail:LXYELE@126.COM.廖生:13538131258

UV紫外光清洗技术应用范围:  
1.各种材料(ITO玻璃,光学玻璃,铬板,掩膜版,抛光石英晶体,)晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理;  
2.
清除石腊,松香,油脂,人体体油以及残余的光刻胶/聚酰亚胺和环氧树脂  
3.
高精度PCB焊接前的清洗和去除残余的焊剂以及敷铜箔层压板的表面清洁和氧化层生成;  
4.
***真空密封技术和热压焊接前的表面清洁处理以及各种微型元件的清洗  
5
。在LCDOLED, Touch Panel科研/生产中,在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗,可以***的提高基体表面润湿性,增强基体表面的粘合力;   
6
。印制电路板生产中,对铜底板,印刷底板进行光清洗和改质,在导线焊接前进行光清洗,可以提高熔焊的接触面积,大大增加连接强度。特别是高精度印制电路板,当线距达到亚微米级时,光清洗可轻易地去除在线距之间很小的微粒,可以大大提高印制电路板的质量。   
7
。大规模集成电路的密度越来越高,晶格的微细化越来越密,要求表面的洁净度越来越高,光清洗可以有效地实现表面的原子清洁度,而且对芯片表面不会造成损伤。    
8
。在半导体生产中,硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗,可以提高粘合力,防止针孔、裂缝的发生   
9
。在光盘的生产中,沉积各种膜前作光清洗准备,可以提高光盘的质量。   
10
。磁头固定面的粘合,磁头涂敷,以及提高金属丝的连接强度,光清洗后效果更好。   
11
。石英晶体振荡器生产中,除去晶体检测后涂层上的墨迹,晶体在银蒸发沉积前,进行光清洗可以提高镀膜质量和产品性能。   
12
。在IC卡表面插装ROM前,经过光清洗可提高产品质量。   
13
。彩色滤光片生产中,光清洗后能***洗净表面的有机污染物。   
14
。敷铜箔层压板生产中,经过光照改质,不仅表面洁净而且表面形成十分均匀的保护氧化层,产品质量***提高   
15
。光学玻璃经过紫外光清洗后,镀膜质量更好。   
16
。树脂透镜光照后,能加强与防反射板的粘贴性。  

典型应用包括:  
         · 表面的原子级清洗  
         ·
聚合物粘接  
         ·
去除有机分子  
         ·
释放捕获的无机分子  
         ·
微流控制作  
         ·
微米/纳米构型  
         ·
紫外光固化  
         ·
表面化学改性  
         ·
表面杀菌  
         ·
表面氧化  
         ·
金属粘结准备……  
         .
光酸化水处理,促进酸化水处理  
         .
光重合反应   
                                        SEN UV
光清洗短短几十秒表面超洁净 !

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