| 加工定制：是 | 品牌：美NanoArch | 型号：NanoArch InP130 |
| 用途：光刻微电路 | 别名：光刻机，3D打印机 | 是否跨境货源：是 |
nanoArchR P130 系统简介
nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统，它采用的是面投影微立体光刻（PμLSE：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统，将需打印图案投影到树脂槽液面，在液面固化树脂并快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件，完成样品的制作。该技术具备成型效***、打印精度高等突出优势，被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。
工业级3D打印系统nanoArch P130是工业级3D打印系统，拥有2μm的***打印精度和5μm的***打印层厚，从而实现***精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
NanoArch P130/S130系统性能 | ||
性能参数 | nano Arch P130产品规格 | nano Arch S130产品规格 |
光源 | UV-LED(405nm) | UV-LED(405nm) |
打印材料 | 光敏树脂 | 光敏树脂 |
光学精度 | 2μm | 2μm |
XY打印精度 | 2-10μm | 2-10μm |
打印层厚 | 5-20μm | 5-20μm |
打印样品尺寸 | 3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H) | 模式1：3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H) |
模式2：38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H) | ||
模式3：50mm(L)x50mm(W)x10mm(H) | ||
打印件格式 | STL | STL |
系统外形尺寸 | 1720(L)x650(W)x1820(H)mm? | 1720(L)x650(W)x1820(H)mm? |
重量 | 450kg | 450kg |
电气要求 | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW | 200-240V,AC,50/60HZ,3KW |
注：样品高度典型2mm,10mm | ||
打印材料：
。通用型：丙烯酸类光敏树脂，如HDDA，PEGDA等
。个生化：高强度硬性树脂，纳米颗粒掺杂树脂，生物医用树脂等。
系统特性：
。高精度：XY打印精度高达2μm；
。低层厚：5μm-20μm的打印层厚；
。微尺度打印能力；
。光学监控系统，自动对焦功能；
。配置气浮平台，提高打印质量；
。优良的光源稳定性；
。配备完善的样品后处理组件，包括抽真空及紫外后固化。
