| 品牌：TRION | 型号：Geminit , Apollo | 产品别名：等离子沉积刻蚀机 |
| 用途：沉积刻蚀微电路 | 适用行业：微电子，半导体，研究机构 | 产品用途：沉积刻蚀微电路 |
| 是否跨境货源：是 |
美国Trion Technology | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。 批量生产用设备-去胶系统Gemini 和Apollo : |
- 低损伤去胶系统
新式去胶系统的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通过两套价格低廉、紧凑的多功能系统使这一关键问题得到解决：Gemini和Apollo。利用ICP(电感耦合等离子)、微波和射频偏置功率，可以在低温条件下将难于消除的光刻胶去除。根据应用要求，每套系统可以结合SST-Lightning 微波源(既可靠又没有任何常见的微波调谐问题) 或ICP 技术。
? 刻蚀速***达6微米/分
? 高产量
? 等离子损伤低
? 自动匹配单元
? 适用于100mm 到300mm 基片
? 设备占地面积小
? 价格具竞争性
