| 加工定制：是 | 品牌：Heidelberg | 型号：VPG800 |
| 用途：大尺寸掩膜版光刻 |
海德堡掩膜版光刻机VPG+ 800/1100/1400
大尺寸掩膜版生产工具
平行化曝光制程技术
热销的VPG（Volume Pattern Generator）系列-全球安装已超过50台。自成立以来，随着技术的进步，VPG产能不断得到进一步提升。整体的高速光学调制器有了飞跃性表现-升级后的系列命名为：VPG+。
大光刻面积VPG+：技术的***
大光刻面积的VPG +维持原VPG系列为根基再进化，使其更加出色。VPG于2007年推出; 是拥有专利的量产型曝光技术光刻系统，可靠和经济的解决方案，适用于要求严谨的掩膜板制造。
速度更快：***速曝光
VPG+系列具有海德堡所研发的高速光学调制器，在速度化下，曝光时间可以达到原始VPG的三倍！强化了曝光动能与数据传输路径。
功能和选项：配备性能
VPG +可配置各种平台尺寸，可达1400mmx1400mm。 该系统具有355nm波长的紫外激光源，空气轴承平台，半自动或全自动入料器，用于基板装载和进的温控环境室。
应用：光罩制造和直接写入
大光刻面积的VPG +系统适用于advanced packaging, semiconductors, displays, color filters, light emitting diodes, touch panel以及life science应用。***图像质量和对位功能，也非常适合在大面积执行多层套刻直写。
VPG+ 型的设备VPG+ 1400专门针对显示器相关行业应用：是所有VPG+系列中功能大，具有***完善的温控环境室，差分干涉仪和***的mura校正以及面板间距优化功能。
Application
Micro-optics, MEMS, Display, Micro sensor
功能: Function
Substrates up to size of 800 x 800, 1100 x 1100 and 1400 x 1400 mm? respectively Minimum structure size: 0.75?m Address grid down to 12.5nm Ultra-high-speed exposure engine High power DPSS laser with 355nm Multiple write modes Automatic write mode exchanger Metrology and alignment system Climate chamber Online data transfer Automatic loading system Multiple data input formats(DXF, CIF, GDSII, Gerber) Stage map correction Edge detector unit Mura correctio
