TITAN离子刻蚀与沉积系统

Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。

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广东深圳宝安区宝安区沙井共和第四工业区新和大道昊海弘工业园A6栋7楼

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品牌：美国Trion

型号：TITAN

TITAN离子刻蚀与沉积系统详细介绍

美国Trion Technology
反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统

Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。

批量生产用:
TITAN离子刻蚀与沉积系统:

Titan是一套用于半导体生产的十分紧凑、全自动化、带预真空室的等离子系统。

Titan具有反应离子刻蚀(RIE)配置、高密度电感耦合等离子沉积(HDICP)或等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)配置。可对单个基片或带承片盘的基片(3”-300mm)进行处理。它还具有多尺寸批量处理功能。价格适宜且占地面积小。

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