| 品牌：美国TRION | 型号：Sirus T2 | 产品别名：离子刻蚀机 |
| 适用行业：微电子,半导体,研究机构 |
美国Trion Technology | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。 Trion提供升级及回收方案给现有Matrix客户。 |
实验室/研发/芯片失效分析用设备: |
刻蚀
Sirus T2 台面式反应离子刻蚀机(RIE)可用于介质以及其它要求氟化基化学的薄膜刻蚀。用於对矽、 二氧化矽、 氮化矽、石英、聚亚醯胺、钽、钨、钨钛以及其他要求特徵控制，高度选择性和良好一致性的材料进行蚀刻。 |
