| 品牌：美国TRION | 型号：美国Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统 | 产品别名：薄膜沉积系统 |
| 适用行业：微电电,半导体,研究机构 |
美国Trion Technology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统 Trion始于一九八九年的等离子刻蚀与沉积系统制造商，Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。我们的产品在业内以系统占地面积最小、成本低而著称，且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。从整套的批量生产用设备，到简单的实验室研发用系统，尽在Trion。 Trion提供升级及回收方案给现有Matrix客户。 美国Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统可以在紧凑的平台上生产高品质的薄膜。独特的反应器设计可以在在极低的功率生产具有优异台阶覆盖的低应力薄膜。该系统可以满足实验室和中试生产环境中的所有安全，设施和工艺标准要求。Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统具有许多标准的需求功能，而且是这样一个如此合理价格，这就是为什么许多世界各地的用户已经作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统的选择。 特征：沉积薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。 工艺气体：＜20%硅烷、氨气、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮 应用：MEMS, 固态照明，失效分析，研发，试验线. |
