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德国Nanoscribe无掩腌光刻机/双光子光刻机/3D激光打印系统

德国Nanoscribe无掩腌光刻机/双光子光刻机/3D激光打印系统

Nanoscribe双光子光刻机,精度达到150纳米,跟传统的3D打印机相比足足高了两个数量级。

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  • 地   址:
    广东 深圳 宝安区 宝安区沙井共和第四工业区新和大道昊海弘工业园A6栋7楼
加工定制:是品牌:德国Nanoscribe型号:德国Nanoscribe无掩腌光刻机/双光子光刻机/3D激光打印系统
用途:光刻,曝光机

德国Nanoscribe无掩腌光刻机/双光子光刻机/3D激光打印系统详细介绍

德国Nanoscribe 3D微打印/无掩膜光刻机/双光子光刻机

 

  


 

 
 

无堵塞微流道: 一种简单的加工微流道的方法是整片衬底上涂上SU-8,然后使用Nanoscribe的光子专业Photonic Professional GT打印出较精细部分的结构,然后再次使用标准的无掩模光刻系统对其它部分进行曝光。 下图是此法加工的无堵塞3D微孔。 200μm高的SU-8中打印出的3D微滤器(设计版权:IMSAS,德国不来梅):


 
 

 

 



 

 

 


3D印刷金色城堡的尺寸:长10毫米,高2.5毫米

 

6毫米深。 3D模型:由Liegenschaftsamt Karlsruhe


 

 

国内使用客户:

  复旦大学, 南京大学, 清华大学, 北京大学, 首都师范大学, 苏州大学, 深圳大学等.

  国外使用客户: 哈佛大学, 麻省理工大学, 东京大学,南洋理工大学, 卡内基梅隆大学

  帝国理工大学, 苏黎世联邦理工大学等50余家用户

 

Thanks and best regards!

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